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光电子微纳制造工艺平台2016年试卷(上半年)及导师确认说明-1模板 光电子微纳制造工艺平台2016年试卷(上半年)及导师确认说明-1模板 PAGE / NUMPAGES 光电子微纳制造工艺平台2016年试卷(上半年)及导师确认说明-1模板 武汉光电国家实验室 分数 光电子微纳制造工艺平台 2016 年试卷 名称：超净间基本规范及安全培训 考试时间： 2016 年 单位： 机械科学与工程学院 导师姓名 黄永安 学生姓名 尹 锋 一． 单选择题（ 60 分） 1.化学试剂溅到身上，立即采用（ 喷淋头），用水冲洗 15 分钟。冲洗后，不要擦 拭皮肤，必要时前往医院治疗。 2.穿着超净服时，（用脚套包住裤腿 ）。 3.超净间内使用（ 圆珠笔）。 4.从（风淋室）进入超净间。 5 对超净间内各处的门，（轻轻）关门。 6.穿着（洁净鞋或者鞋套 ）进入更衣间。 7.清洗间清洗槽的排气风扇因故障停止， （继续）清洗。 8.冲洗容器的稀释液倒入（ 排水槽）。 9.手套破损，（立即更换 ）。 10.酸、碱及有机溶剂容器的盖子，使用后（ 立即锁紧盖子 ）。 11.超声清洗及其它清洗中，通风柜的门（ 处于半关闭位置 ）。 12. 废液待温度降至室温时，倒入（ 收集桶）。 13.稀释酸液时，（将酸慢慢倒入水中 ）。 14.化学试剂不小心溅到脸上或眼睛里，立即采用（ 洗眼池 ），用大量水冲洗 15 分钟以上。联系平台领导及工程师协助立即前往医院就医，同时通知导师。 15.进清洗间，（戴）防护眼镜或面罩、耐酸碱手套。 16.发生火警时，从（ 安全门）跑出超净间，在 A 区北面广场集合，便于清点人 1 数。 在工艺设备发生火灾时，如果火苗较小且没有过多烟雾时，同学们可使用 CO 2 灭火器）灭火。 18.密闭房间内，氮气泄漏有（ 窒息）威胁。 19.光刻工艺在（ 黄色光）条件下进行。 20.（取得）操作许可证，才能独立操作设备 21.超净间级别 由低到高依次为：（ 10000 级、 1000 级、 100 级）。 22.进入超净间的个人 动作顺序 为： 2）脱一次鞋→穿上净化服→戴上净化帽→洗手→戴上口罩手套→进风淋室→ 入室； 要带入超净间的仪器、工具、硅片和掩模盒，请在（ 更衣室）进行清洁。 所有的瓶罐，不论有无冲洗过，若没有贴上危险物质标示贴，只能由（ 工作人员）用水清洗。 （用镊子）拿硅片。 （N2O）为低毒类气体，发生泄漏时，在安全区域佩戴简易防护面罩手套，然后前往特气室关闭钢瓶阀门及供气面板输出阀门。 （ H2 ）为易燃易爆气体，为防止火星，操作时禁止使用手机，禁止穿化纤服装，禁止穿铁掌皮鞋。同学们不得自行操作此类气体。 （PH3）为剧毒性气体，操作时需要戴放毒面具。同学们不得自行操作此类气体。 光刻工艺对环境洁净度、温湿度要求高，在（ 百级）间进行。 金相显微镜、光刻机使用完毕后，在后续（ 没有人）使用情况下，一定要关 2 闭电源，延长光源使用时间。 二． 判断题（ 40 分） 1.手接触手套的外表面。（错） 2.在千级间内喝水。（错） 3.一个人在超净间内实验。 （错） 4.在超净间内给磁控溅射机靶材进行打磨工作。 （错） 5.穿皮鞋在更衣间或走廊间走动。 （错） 6.在百级间内缓慢走动。（对） 7.千级间与技术夹道之间的门总是开着。 （错） 8.垃圾放入字纸篓或垃圾桶，并经常把垃圾袋清除到超净间外。 （对） 9.在超净间内补妆。（错） 化学清洗槽的抽气装置出故障了还继续使用。 （错） 11.戴着超净间内使用过的橡胶手套洗碗。 （错） 12.废液入桶，有机和无机的废液倒入一个桶中。 （错） 发生火警时，担心弄脏超净服，所以先脱掉超净服再逃生。 （错） 14.火势很大，或烟雾过多时，同学们警告附近的人员立即逃生，不管其它任何 工作。灭火工作求助 119 专业消防员。（对） 15.未经平台主任或设备工程师审定，就实施自己的新工艺程序。 （错） 16.碰到设备故障时，自己尝试处理。 （错） 17.实验完成时，不通知工程师或助管，自行离开。 （错） 18.化学药品用毕后，在空瓶外贴上安全标示贴，清洗完的空瓶贴上“已清洗” 。 3 （对） 19 酸类调和后，立即盖紧存放。 （错） 20.私自带剧毒、易爆炸类物品进入超净间。 （错） 21.没通过安全培训，没有超净间通行证想要进入超净间工作。 （错） 22.无设备操作证书使用设备。 （错） 23.浓硫酸不小心溅到脸上，用大量水冲洗并用毛巾擦脸。 （错） 24.在超净且门关闭的房间内，没有异味，但是感到憋气且脸发红，可能有氮气 泄露。应立即离开房间，通知工程师。 （对） 25.非设备管理人员未经允许， 不得进入技术夹道动用工艺气瓶及其它装置。 （对） 26.书包带入超净间。（错） 2