声表面波器件制作工艺介绍;一.声表面波器件的用途;;;二.声表面波器件工作原理;;;;;SAW滤波器构成及频响压电基片+IDT(半导体工艺);;三.主要声表面波器件用晶片材料;LT、LN主要功能;常用表面波切型;晶片背面的加工粗糙度;四.声表面波器件制作工艺流程;1.前工序;湿法工艺;;;③.曝光;④.显影;⑤.刻蚀;⑥.去胶;B、剥离工艺;①.涂光刻胶;②.曝光;③.显影;④.镀膜;⑤.去胶;制作完成图形;主要工艺-清洗;STANGL精清洗系统;主要工艺—镀膜;主要工艺—镀膜;主要工艺—镀膜;主要工艺—镀膜;主要工艺-光刻;主要工艺-光刻;M2000涂胶显影机;半自动探针测试;2.后工序;主要工艺-丝网涂胶(吸声胶);SAW滤波器凃胶的重要性;主要工艺-丝网涂胶;主要工艺-划片;主要工艺-划片;主要工艺-粘片(自动SMD);主要工艺-粘片;主要工艺-点焊(自动铝丝键合);降到第二焊点;主要工艺-点焊;主要工艺-点焊线拉力和芯片剪切力测试;主要工艺-预焊;主要工艺-平行封焊;主要工艺-平行焊接;主要工艺-平行焊接;主要工艺-储能封焊;主要工艺-测试;主要工艺-测试;成品
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