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- 2021-11-24 发布于浙江
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生产计划部 * 生产计划部 一个是漏极D,一个是源极S。在源极和漏极之间的 绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。P型半导体称为 衬底,用符号B表示。 (1)N沟道增强型MOSFET ①结构 根据图02.13, N沟道增强 型MOSFET基本上是一种左右对称的拓扑结构,它是在P型半导体上生成一层SiO2 薄膜绝缘层,然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区,从N型区引出电极, 当栅极加有电压时,若 0<VGS<VGS(th)时,通过栅极和 衬底间的电容作用,将靠近栅极 下方的P型半导体中的空穴向下 方排斥,出现了一薄层负离子的 耗尽层。耗尽层中的少子将向表 层运动,但数量有限,不足以形 成沟道,将漏极和源极沟通,所以不可能以形成漏极电流ID。 ②工作原理 1.栅源电压VGS的控制作用 当VGS=0V时,漏源之间相当两个背靠背的 二极管,在D、S之间加上电压不会在D、S间形成电流。 VGS对漏极电流的控制关系可用 ID=f(VGS)?VDS=const 这一曲线描述,称为转移特性曲线,见图02.14。 进一步增加VGS,当VGS>VGS(th) 时( VGS(th) 称为开启电压),由于此 时的栅极电压已经比较强,
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