激光标刻探密.docVIP

激光标刻探密 对于工具、工件和组件进行激光标刻加工，具有很多方面的应用优势。这种加工方式可产生恒久的标刻表面，其工艺灵活多样，不仅安全可靠，而且十分环保；它不仅能够在平面、曲面以及形状怪异的物体上游刃有余，而且适合在各种不同材料，甚至在其它标刻加工可能造成破损的材料上使用。 激光标刻是一种非接触式的热加工方法，它根据激光束所产生的热量摧毁工件表面的部分材料。顾名思义，从“激光，Laser”这个英文缩写词的本义 (Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation，受激辐射式光频放大器) 可知，激光是以高强度激光束的形式来吸收和发射能量、继而实现光频放大的。 各种激光系统都包括某种受激介质，这种介质的原子可被激发而产生自发光。 受激介质可以是某种混合气体——比如二氧化碳或氦氖气体；可以是半导体基材——比如激光二极管；可以是液体染料激光；也可以是某种晶体——比如钕-钇铝石榴石 (Nd:YAG)、钕-氟化钇锂晶体(Nd:YLF)或红宝石。激光还具有一种称为泵浦的激发能量源，也即介质的原子。泵浦源通常以放电方式工作，采用高强度的光源或来自其它激光器的光束。 固体钕-钇铝石榴石激光可在各种金属与非金属材料的标刻加工中使用，而且通常都采用光束控制型激光标刻。 这些激光标刻系统能使射到这些材料表面的激光束发生偏转，就好比是铅笔划在纸张上一样。不同之处在 于，铅笔所堆积的是铅，而高强度激光则摧毁工件的材料，从而形成具有一定反差的图像。 系统的控制 为了达到要求的效果，光束控制型钕-钇铝石榴石激光标刻系统提供了多种热反应控制方式供操作者选用，既能采用手动操作，也可以利用计算机进行控制。 通过增加或降低氪弧灯的电流，可以调节激光输出的功率。随着电流的改变，激光输出功率和增益率也会相应地发生变化。 钕-钇铝石榴石激光系统的组成。 一旦以激励灯电流建立一定的光频放大总量之后，操作人员就可以用Q开关调节激光的脉冲频率。Q开关能有效地把激光输出分割成脉冲光束。理解这一现象的最佳途径，是把Q开关激光看成是一个“光学电容器”。激光的能量在不发射光束的各脉冲之间得到储存，这与电容器十分相似。 如果采用Q开关的脉冲式激光，那么输出的脉冲光束之中包含了绝大部分储存的能量。 如果将脉冲频率设为低频 (1kHz)，则相邻脉冲之间充电时间长，因而产生的峰值脉冲功率相当高，而脉冲宽度非常窄 (约为 100 毫微秒)。如果将脉冲频率提高到10 kHz，则由于相邻脉冲之间充电时间的缩短而降低了峰值功率。 低频、大功率的峰值脉冲可迅速升高工件表面的温度，材料即刻就气化蒸发，仅有极少热量传导到零件的内部。激光脉冲频率越高，产生的峰值功率就越低；这样的话，如果材料发生气化现象，就会形成更多的热传导。与此同时，在给定时间内，如果有更多的脉冲，那么加工表面的热传导也会上升。 Q开关的脉冲频率可能是热加工最重要的控制变量。脉冲频率可随激发光电流的变化，实现手动或部分程控的功能。当激光的输出功率与激发光的电流和脉冲频率相匹配之后，操作者就必须确定光束的移动速度——即标刻的速度。 理想条件下的每一种生产应用，都需要以最大的速度运行，以获得最高的产量。而对于激光标刻来说，光束的移动速度是热加工的另一个重要变量，必须加以正确设置，以获得要求的加工效果。 深度标刻的典型深度在 0.002 英寸以上，必须以多个激光脉冲射到标刻线的每一点上，才能达到所需的加工深度。为此，就必须降低激光束的行进速度。如需进行浅标刻，则可增大移动速度、乃至达到系统的最大值。此时，脉冲频率设定值将呈现相应的热扩散性，最终的标刻效果可能无法达到美观的要求。一般的应用规则是，激光脉冲至少应具有 50% 的重叠率，被加工表面才会形成一条连续的标刻线。 由 Telesis Technologies 公司 (网址：) 所开发的Express10EV激光系统 (见上图)，可以在高反射硅片上雕刻高分辨率的纤细文字。 材料因素 钕-钇铝石榴石激光能兼容各种激光标刻材料。某些材料的特性会影响标刻加工的效果，这些特性包括反射率、吸收特性、导热性、工件的颜色和表面光洁度。 激光必须被吸收，才能产生热量。如果被加工的材料对激光具有很强的反射性，就需要增大激光的功率，降低脉冲频率，从而获得更高的峰值功率。另外，还可以降低光束移动的速度。 对于反光性材料，可能就根本无法进行标刻加