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纳米级炫耀光栅测量系统稳定性研究 1 引言 在超精密加工和超精密测量领域，分辨率为10nm，甚至lnm的光栅系统己被研制开发出来，并被应用到超精密设备上。具有对环境要求比较低、稳定性好、价格低等优点，不足之处是测量范围小。比如HEIDENHAIN的分辨率为1nm的LIP382型光栅系统的测量范围是70mm，国内北京光电量仪研究中心的LGl00型光栅系统分辨率1nm，测量范围是100mm。为何这些光栅系统的测量范围小呢?因为这些光栅系统都采用相位光栅，现有的相位光栅刻划机的刻划长度是有限的，一般不超过150mm。另外相位光栅的刻线密度都很高，刻划100mm左右的光栅需要一周的时间。要扩大测量范围，就必须增加光栅的刻划长度，要增加光栅的刻划长度，就必须更新光栅刻划机，还要增加刻划时间，这样一来就很难保证刻划精度。而焙耀光栅系统，其指示光栅用相位光栅，而标尺光栅用计量光栅其分辨率决定于指示光栅，而测量范围决定于标尺光栅，标尺光栅是计量光栅可以有较长的刻划长度，比如可以刻划到一米长。这样，焙耀光栅系统即具有一般光栅系统的优点，又不存在测量范围小的缺点，是一项有发展前途的光栅系统。 2 炫耀光栅的工作原理 所谓炫耀光栅是一种物理光栅，物理光栅也叫衍射光栅，其沟槽形状为锯齿形。当一束平行光照射一块物理光栅时，就会被衍射成m级光束。以α角入射的单色平行光经过衍射光栅以后发生衍射，来自相邻刻线而其