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硅集成电路工艺——离子注入io白nimplantation.pptVIP

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  • 2021-12-06 发布于福建
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硅集成电路工艺——离子注入io白nimplantation.ppt

    ;;;§4.3 离子注入系统;;;磁分析器原理;加速和聚焦系统;终端台;;;;§4.4 注入损伤;;注入损伤的形式;§4.5 热退火 Thermal Annealing;热退火的定义和目的;热退火过程（固相外延）;;;;;快速退火 Rapid Thermal Annealing (RTA);小结;;

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