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理想半导体:
1、原子严格周期性排列,具有完整的晶格
结构。
2、晶体中无杂质,无缺陷。
3、电子在周期场中作共有化运动,形成允带和禁带——电子能量只能处在允带中的能级上,禁带中无能级。
?本征半导体——晶体具有完整的(完美的)晶格结构,无任何杂质和缺陷。由本征激发提供载流子。;实际半导体;主要内容;§2.1 Si、Ge晶体中的杂质能级
1、杂质与杂质能级杂质:半导体中存在的与本体元素不同的其它元素。;在金刚石型晶体中,晶胞中原子的体积百分数为34%,说明还有66%是空隙。Si 中的杂质有两种存在方式,
a:间隙式杂质
特点:杂质原子一般较小,锂元素
b:替位式杂质
特点:杂质原子的大小与被替代的晶格原子大小可以相比,价电子壳层结构比较相近,Ⅲ和Ⅴ族元素在Si,Ge中都是替位式;B:替位式→杂质占据格点位置。大小接近、电子壳层结构相近;N型半导体;杂质能级位于禁带中;;(1)VA族的替位杂质——施主杂质; (a)电离态 (b)中性施主态;过程:
1.形成共价键后存在正电中心P+;
2.多余的一个电子挣脱束缚,在晶格中自由动;杂质电离
3. P+成为不能移动的正电中心;;电离的结果:导带中的电子数增加了,这即是掺施主的意义所在。;电离时,P原子能够提供导电电子并形成正电中心,——施主杂质。;;;定义:;3、受主能级:举例:Si中掺硼B; 在Si单晶中,Ⅲ族受主替位杂质两种电荷状态的价键(a)电离态 (b)中性受主态;价带空穴 电离受主 B-;电离的结果:价带中的空穴数增加了,这即是掺受主的意义所在;在Si中掺入B;;;定义:;施主和受主浓度:ND、NA;;N型半导体
特征:;P型半导体价带空穴数由受主决定,半导体导电的载流子主要是空穴。空穴为多子,电子为少子。;杂质向导带和价带提供电子和空穴的过程(电子从施主能级向导带的跃迁或空穴从受主能级向价带的跃迁)称为杂质电离或杂质激发。具有杂质激发的半导体称为杂质半导体 ;施主向导带提供的载流子
=1016~1017/cm3 》 本征载流子浓度;上述杂质的特点:;4. 浅能级杂质电离能的简单计算;玻尔原子电子的运动轨道半径为:;类???模型
氢原子中电子能量
n=1,2,3……,为主量子数,当n=1和无穷时;氢原子基态电子的电离能
考虑到正、负电荷处于介电常数ε=ε0εr的介质中,且处于晶格形成的周期性势场中运动,所以电子的惯性质量要用有效质量代替;类氢模型:计算束缚电子或空穴运动轨道半径及电离能;施主杂质电离能
受主杂质电离能
;对于Si中的P原子,剩余电子的运动半径约为24.4 ?:;施主能级靠近导带底部;对于Si、Ge掺B;;;(3) ND≈NA;杂质的补偿作用;6. 深杂质能级;;深能级杂质;例1:Au(Ⅰ族)在Ge中;在Ge中掺Au 可产生3个受主能级,1个施主能级;1. Au失去一个电子—施主;;3.Au获得第二个电子;4.Au获得第三个电子;深能级杂质特点:
不容易电离,对载流子浓度影响不大;
一般会产生多重能级,甚至既产生施主能级也产生受主能级。
能起到复合中心作用,使少数载流子寿命降低。;;§2-2 化合物半导体中的杂质能级 ;;●等电子杂质 ;●束缚激子 ;●两性杂质;§2.3氮化镓、氮化铝、碳化硅中的杂质能级;点缺陷:空位、间隙原子
线缺陷:位错
面缺陷:层错、晶界;2.元素半导体中的缺陷;(2) 填隙;;4.Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体的缺陷;a.负离子空位;b.正离子填隙;产生负电中心,起受主作用;产生负电中心,起受主作用;负离子空位;第二章 半导体中的杂质和缺陷能级
1.什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?
2.什么叫施主?什么叫施主电离?施主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出n型半导体。
3.什么叫受主?什么叫受主电离?受主电离前后有何特征?试举例说明之,并用能带图表征出p型半导体。
4.掺杂半导体与本征半导体之间有何差异?试举例说明掺杂对半导体的导电性能的影响。
5.两性杂质和其它杂质有何异同?
6.深能级杂质和浅能级杂质对半导体有何影响?
7.何谓杂质补偿?杂质补偿的意义何在?;1、解:浅能级杂质是指其杂质电离能远小于本征半导体的禁带宽度的杂质。它们电离后将成为带正电(电离施主)或带负电(电离受主)的离子,并同时向导带提供电子或向价带提供空穴。
2、解:半导体中掺入施主杂质后,施主电离后将成为带正电离子,并同时向导带提供电子,这种杂质就叫施主。
施主电离成为带正电离子(中心)的过程就叫施主电离。施主电离前不带电,电离后带正电。例如,在Si中掺P,P为Ⅴ族元素。
本征半导体Si
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