第二章 技术磁化理论;Weiss分子场假说——自旋交换作用导致磁性体内部存在分子场,从而产生自发磁化(MS~T关系,以及居里点的存在)
在未受外磁场作用时为什么绝大多数铁磁体不显示宏观磁性呢?——磁畴假说
磁畴的概述:宽度约为10-3cm,包含1014个磁性原子(从微观和宏观两种角度认识磁畴);磁畴结构:磁畴的大小、形状以及它们在铁磁体内的排布方式。研究磁畴结构的形式及其在外磁场中的变化是磁学的重要内容之一;第1节 技术磁化
Technical Magnetization;铁磁性物质的基本特征:
(1)、铁磁性物质内存在按磁畴分布的自发磁化
(2)、铁磁性物质的磁化率?很大
(3)、铁磁性物质的磁化强度与磁化磁场强度之间不是单值函数关系,显示磁滞现象,具有剩余磁化强度,其磁化率都是磁场强度的函数
(4)、铁磁性物质有一个磁性转变温度-居里温度TC
(5)、铁磁性物质在磁化过程中,表现为磁晶各向异性和磁致伸缩现象;一、磁化过程概述(General of magnetizing process);2、磁化曲线的基本特征:;(3)、陡峭区
中等场H范围,M变化很快。 特点是不可逆磁化过程,发生巴克豪森跳跃的急剧变化,其?与? 均很大且达到最大值——又称最大磁导率区;3、磁化过程的磁化机制:;即技术磁化过程为畴壁位移和磁畴转动两种基本
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