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反蛋白石结构光催化剪裁石墨烯的方法探析
目录
TOC \o 1-9 \h \z \u 目录 1
正文 1
文1:反蛋白石结构光催化剪裁石墨烯的方法探析 1
1、 引 言 2
2 、实 验 3
3、 光催化还原过程及表征 4
4 、结 论 6
文2:如何选择和剪裁新闻素材 6
一、准备:培养新闻敏感性 7
二、捕捉:积累发掘新闻素材 7
三、选择:过滤时效性不强、没有亮点的新闻素材 8
四、剪裁:对新闻素材中的信息进行筛选、取舍 8
五、结束语 9
参考文摘引言: 9
原创性声明(模板) 10
文章致谢(模板) 10
正文
反蛋白石结构光催化剪裁石墨烯的方法探析
文1:反蛋白石结构光催化剪裁石墨烯的方法探析
Abstract: Research on advanced methods of graphene nano-trimming is very important for graphene-based electronic and optical devices. In this paper, the invee opal structure is fabricated by the template method, and the invee opal nanonet structure is used to perform nano-cutting of graphene by photocatalytic reduction of graphene oxide. Scanning electron microscopy and infrared spectroscopy characterization are applied to study the electrical properties of graphene after cutting. Experiments show that the reaction time and the size of the colloidal particles will affect the period and neck width of the graphene oxide after cutting, thereby affecting the electrical properties of the graphene oxide after reduction. It is a feasible method to use nano-network structure to cut graphene nano-cuts. The properties of the cuts can be controlled by controlling the template size and reaction conditio。
Keyword: graphene; invee-opal structures; photocatalytic method;
1、 引 言
石墨烯是单层原子二维纳米材料,在强度[1]/电导率/导热率[2]、高光学透射率[3]、通过掺杂[4]或施加外部横向电场[5]调整表面电导率、非线性光学特性[6]等方面具有非常好的特性。石墨烯在许多技术领域都具有应用前景,例如触摸屏[7]、电子纸[8]、可折叠有机发光二极管[9]、高频晶体管[10]、固态锁模激光器[11]、光电探测器[12]、偏振控制器[13]、光学调制器[14]、能量存储装置[15,16]等。然而,石墨烯是零带隙半导体[17],这限制了其在电子和光电设备中的应用。 石墨烯带隙可以使用不同的方法来产生或改变,例如形成纳米带或纳米网格[18,19]、掺杂[4]、破坏双层石墨烯的对称性[20]等。
特征尺寸小于10 nm的石墨烯纳米结构具有在光电子方面应用所需的带隙[21,22,23]。目前,已经有许多方法可得到具有纳米级宽度的石墨烯,例如光掩模板辅助光催化[24,25]、表面模板辅助各向异性刻蚀[26,27,28]、模板辅助化学修饰[29,30]和直接激光蚀刻[31]。在这些方法中,单层胶体球体已被证明是可靠的二维模板。 但是,在目前的方法中,二维模板仅起到了几何限制或光催化的作用,并没有利用掩膜板的电导率。 如果模板可以用作石墨烯图案化的电子通道,那么不仅是二维,甚至是三维结构也可应用于石墨烯的图案化。
本文发明了一种使用反蛋白石结构光催化石墨烯表面的方法,利用氧化石墨烯通过原位还原的方法形成图案化的石墨烯,获得了具有不同氧化还原状态模式和几何图像的石墨烯。 研究了周期性形态、氧化还原状态以及电子和
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