光学谐振腔(翻译).docxVIP

光学谐振腔 大多数激光器发射的光都包括有几种分立的光学频率，它们彼此间的频率差各不相同，从而使光学谐振腔产生不同的模式。通常将谐振腔产生的模式分为两类：纵模和横模。纵模彼此间的差异仅在于它们具有不同的振荡频率；横模彼此间的差异除了具有不同的振荡频率外，而且在垂直于其传播方向的平面内，场的分布也不同。与一个给定的横模相对应的大量纵模同该横模具有相同的场分布， 但是频率却不同。 人们用符号 TEMmnq 或 TEMplq 来描述光学谐振腔内电磁场的变化。大写字母 TEM 表示横向电磁波，前两个下标表示肯定的横模，q 表示纵模。因为典型激光器所有的谐振腔都比激光波长要长得多，所以一般都有很多的纵模。因此， 表示腔体轴向模数量的 q 的数值非常大。表示横模的下标值却很小，有事可能只取前几位整数。该值表明了在垂直与轴向的平面内场的变化。 激光器的光谱特性，如谱线宽度和相干长度等，主要取决于纵模；而光束发散角，光束直径和能量分布等则取决于横模。一般来说，如果没有采取特殊的措施来限制振荡模的数量，激光器就是多模振荡器。其原因在于这样的事实，即非常多的谐振腔纵模都处于激光跃迁的带宽内，而在激活材料的截面内，可能有很多横模。 5.1 横模 文献[5.1~5.3]论述了光学谐振腔的模式理论，文献[5.4，5.5]也对这一专题进行了综合评论。 5.11 横模的强度分布 那些在两个反射镜之间来回反射，其振幅和相位分布保持不变的电磁场才能存在于光学谐振腔中，这些特殊的场分布形成无源谐振腔的横电磁膜。 在直角坐标系中，用符号 TEMmn 表示横模，整数 m,n 表示在水平和垂直方向上与光轴垂直的强度零节点的数量。在圆柱坐标系中，用TEMpl 表示横模，p 表示径向节点数，l 表示角向节点数。m,n，p，l 的数值越大，模的阶数就越高。最低 阶模 TEM00 模，在它的光轴上有最大的高斯强度分布。对于下标为 1 或者比 1 大的模，最大的强度值不在对称花样的轴上。为了确定振荡模的峰值和节点的位置，幅度，必须使用高阶厄米多项式或高阶拉盖尔多项式方程。应用直角坐标系 时，使用的厄米多项式；应用圆柱坐标系时，则通常采用拉盖尔多项式。在圆柱坐标系中，由下式给出容许的圆对称 TEMpl 模的径向长度分布： （5.1） 式中， Z 为光束的传播方向；r,Φ 为垂直于光束方向的极坐标。径向强度分布被归一为 高斯分布的光斑尺寸，即 w（z）表示高斯光束的光斑尺寸，其定义为：TEM（00） 模的强度为其轴线上峰值的时的半径。 表示 p 阶 l 次广义拉盖尔多项式。上式中给出的强度分布是径向部分和角向分布的乘积。对于 l=0 的模，不存在角向关系。而模花样有 p 个同心暗环，每一个暗环对应着一个值为 0 的（ρ）。由于因子 exp（-ρ）的缘故，径向强度分布是衰减的。如果 l=0，pl 模的中心就 是亮点，否则会因为因子 而成为暗点。这些模除了在径向上有 p 个零点外，在 角向上也有 2l 个节点。只有改变光斑尺寸和轴向位置 z 的关系，才能改变（pl） 模的分布。但是，对于所有的 z 值，模仍然维持电磁场分布的一般形式。当 w 随 z 增大时，模的横向尺寸也会增大，所以模花样彼此之间的尺寸保持稳定的比值。上式中可以确定任何光束的模式的分布。下图示出了在激光器的输出光束中， 不同圆柱横模横向强度分布花样。注意，模所占有的面积随着模阶数的增加而增大。标有星号的模表示由两个近视模线性叠加而成，其中一个模围绕另一个模的 轴旋转。例如，标记为 01 的 TEM 模由两个 TEM（01）模组成。 图 5.1 圆柱形（a）和矩形（b）横模花样的示例。对于圆柱形模，前后两个小标分别表示暗环数和花样中的暗带数。对于矩形模，两个下标分别表示x,y 方向的暗带数。 只有改变光斑尺寸与轴向位置 z 的关系，才能改变(pl)模的分布。但是，对于所有的 z 值，模仍然维持电磁场分布的一般形状。当 w 随 z 增大时，模的横向尺寸也会增大，所以模花样彼此之间的尺寸保持稳定的比值。 根据式（5.1）可以确定任何光束模式的分布。图 5.1（a）示出了在激光器的输出光束中，不同圆柱横模向强度分布花样。注意，模所占据的面积随着模阶数的增加而增大。标有星号的模表示由两个近似模线性叠加而成，其中一个模围 绕另一个模的轴旋转 900. 例如，标记为 01*的 TEM 模由两个 TEM 01 模组成。 如果将合适的拉盖尔多项式代入上式（ 5.1）中，就可以得出上图所示的模的强 度分布，即 图 5.2 示出了最低阶模和阶数仅高于它的两个横模（即 TEM  ，TEM ，TEM ）的 强度分布。 00 01 10 图 5.2 TEM 模，TEM 模，TEM 模的径向强度分布，这些模的半径已归一化