多晶硅中二氯二氢硅反歧化地的综述.pdfVIP

实用标准文案 二氯二氢硅歧化反应的综述 摘要：二氯二氢硅（Dichlorosilane ,简称DCS）是多晶硅行业中产 生的废料之一，如何充分利用二氯二氢硅，减少污染，增加三氯氢硅 的产量，是多晶硅行业中比较重要的问题之一。本文详细综述了国内 外二氯二氢硅歧化反应的有关技术，并对二氯二氢硅歧化反应的催化 剂进行了详细的叙述，为今后进一步研究二氯二氢硅的歧化反应提供 了理论依据。 关键词：二氯二氢硅，歧化，多晶硅 英文摘要：Dichlorosilane is one of the by-products from the reaction of at least one of meatallurgical silicon and silicon tetrachloride with at leastone of anhydrous hydrogen chloride and hydrogen to produce trisilane.It is important to the silicon industry how to take advantage of the dichlorosilane. This pape introducedthe dispropornation of dichlorosilane to produce trichlorosilane and summarized the dispropornation catalyst. Through this paper, it provided a theoretical basis fo the furthe research of the dichlorosilane dispropornation. 二氯二氢硅(又名二氯硅烷，Dichlorosilane ，简称 DCS），分 子式 SiH Cl ，无色，剧毒，腐蚀性，易燃，带有刺激性的盐酸味， 2 2 常温下呈液化的气体。二氯二氢硅在空气中易燃，100℃以上能自然， 燃烧后生成氯化氢和氧化硅。加热至100℃以上时会自行分解而生成 精彩文档 实用标准文案 盐酸、氯气、氢气和不定性硅，施以强烈撞击时也会自行分解，在湿 空气中产生腐蚀性烟雾。与碱、乙醇、丙酮起反应，即使接触少量卤 素或其他氧化剂也会发生激烈反应。二氯二氢硅的毒性主要是由它在 湿空气中的水解产物氯化氢引起的。二氯二氢硅主要用作半导体外延 和化学气相沉积工艺中的硅源气体，有机硅化合物的生产，制作大规 模集成电路所必需的优质硅源。 一、多晶行业中二氯二氢硅的来源 在多晶硅行业的生产中，DCS 废料的产生主要有以下两个过程： 一是氯化过程或冷氢化过程中所产生的二氯二氢硅；二是在化学气相 沉积（CVD）还原炉中三氯氢硅（TCS）的还原过程中也会产生二氯二 氢硅。这些二氯二氢硅在以前的多晶硅装置中是不能够回收利用的， 它在蒸馏过程中随其它轻组分一起蒸出，而进入到废物回收系统中， 水解产生大量的废气，对环境造成严重的污染。如果这部分二氯二氢 硅能够转化为可利用的三氯氢硅，整个系统中产生废气的量将大幅减 少，而且也能够提高三氯氢硅的产率及降低电能的耗用。为此，人 想到了二氯二氢硅的反歧化作用，即四氯化硅和二氯二氢硅在一定的 温度、压力、催化剂的作用下反应生成三氯氢硅。二氯二氢硅的反歧 化反应的方程式如下： Cat SiH Cl + SiCl 2SiHCl 2 2 4 3 Cat + DCS STC 2TCS 二、反歧化作用的催化剂 氯硅烷的反歧化工艺由UCC （）在上世纪七十年代中期开发，并 精彩文档 实用标准文案 成功应用于工业化装置中。目前，随着我们国家对排放物要求的提高 及多晶硅行业向大型化的发展，利用反歧化技术回收以二氯二氢硅， 将是一个很好的选择。 由于二氯二氢硅在电子工业上的应用，对二氯二氢硅歧化反应的 研究更多一些。二氯