等离子体条件下二氧化钛表面自掺杂及光催化性能研究.docx

近年来,二氧化钛被广泛用于有机物降解、太阳能电池、水解制氢和生物技术等方面[1,2]。但二氧化钛自身禁带较宽（3.2 eV）、电子空穴复合率高,且仅对紫外光响应,这极大地限制了二氧化钛的光催化应用。有研究结果表明,催化剂表面缺陷可以诱导电子-空穴的分离,进而提升催化剂的光催化性能[3,4]。高家诚等[5]通过高温氢气还原在二氧化钛表面形成了大量的表面缺陷;Chen等[6]采用C/N共掺杂二氧化钛产生了大量的晶格缺陷。在通过传统方法形成表面氧缺陷的过程中,往往需要高温高压和长时效反应条件,导致表面氧缺陷的研究与应用受到限制,因此,探索一条高效、快速的表面氧缺陷制备方法迫在眉睫。 等离子体作为一种