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光学镀膜材料的分类 1. Y 钇（ ） Y O ）使用电子枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm 三氧化二钇，（ 2 3 1.8. , m 时折射率约为 用作铝保护膜其极受欢迎 特别相对于 区域高入 射角而言可用作眼镜保护膜且 小时暴露于湿气中一般为颗粒状和片状 , , 24 . . 2.二氧化铈（CeO ） 2 ( ) , 200℃ , 使用高密度的钨舟皿 较早使用 蒸发在 的基板上蒸着二氧化铈 得到 一个约为 的折射率在大约 有一吸收带其折射率随基板温度的变化而 2.2 , 3000nm , 300℃ 500nm 2.45, 400nm 发生显著变化在 基板 区域折射率为 在波长短过 时有吸 收传统方法蒸发缺乏紧密性 用氧离子助镀可取得, , n=2.35(500nm)的低吸收性薄 膜一般为颗粒状还可用一增透膜和滤光片等, , . 3.氧化镁(MgO) 必须使用电子枪蒸发因该材料升华 坚硬耐久且有良好的紫外线, (UV)穿透 ,250nm n=1.86, 190nm n=2.06. 166nm K 0.1,n=2.65. 性 时 时 时 值为 可用作紫外线 薄膜材料.MGO/MGF2膜堆从200nm400nm 区域透过性良好 但膜层被限制在, 60层以内 由于膜应力( )500nm 时环境基板上得到 n=1.70.由于大气 CO2 的干 扰,MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层可成功使用传统的, MHL折射率 3 AR (MgO/CeO2/MgF2). 层 膜 4.硫化锌(ZnS) 折射率为2.35m 的透光范围具有良好的应力和良好的环境耐久, 性,ZnS在高温蒸着时极易升华这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一, 无吸附性膜层 因此需要彻底清炉 并且在最高温度下烘干 花数小时才能把锌的, , , .HASS (UV) ZNS , 不良效果消除 等人称紫外线 对 有较大的影响 由于紫外线在大气 中导致15—20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO).应用：分光膜冷光膜, , 装饰膜滤光片高反膜红外膜, , , . 5.二氧化钛(TiO)2 TiO2 由于它的高折射率和相对坚固性人们喜欢把这种高折射率材料用于可, 见光和近红外线区域 但是它本身又难以得到一个稳定的结果, .TiO,TiO .TiO, 2 2 3 Ti,这些原材料氧—钛原子的模拟比率分别为:2.0,1.67