物理气相沉积技术.pptxVIP

会计学;What is the Deposition?;薄膜材料的制备;眼镜片的镀膜;镀膜技术的评价 薄膜性能 膜厚分布 附着力 沉积速度;一、 真空蒸发镀;（一）真空蒸发镀示意图; １、蒸发 　　 ２、汽化粒子的输运　（源－基距＜平均自由程） ３、凝聚、生长过程 ;1、蒸发过程;蒸发方式（蒸发源类型）;3、凝聚、生长过程;（三）真空蒸发镀工艺;立式蒸发镀膜机;蒸发镀膜制品;二、 溅射镀;(二）镀膜原理;离子束溅射;阴极溅射镀膜原理示意图;阴极溅射主要过程：;（三）膜生成的三大阶段：;靶面原子的溅射;（四）影响溅射量的因素：;;（五）溅射镀膜的优缺点;（六）常用阴极溅射方法;1、二极溅射镀膜;2、射频溅射镀膜;射频溅射镀膜的原理图;原理：;应用： 用来沉积各种合金膜、磁性膜、超声换能器的铌酸锂和钛酸钡压电薄膜和其它功能薄膜。 特点：（相对直流溅射） 1）射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜； 2）获得的薄膜致密、纯度高； 3）与基片附着牢固； 4）溅射速率大、工艺重复性好。;3、磁控溅射镀膜（高速低温溅射）;JC500-2/D型磁控溅射镀膜机;磁控溅射镀膜制品;三、 离子镀膜;离子镀膜原理示意图;（二）常用离子镀膜方法;1、空心阴极离子镀(HCD);空心阴极离子镀(HCD)装置示意图;2、磁控溅射离子镀技术;磁控溅射离子镀原理示意图;