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-- 龋病的充填修复治疗
主讲人:XXX
--Ⅰ类洞制备方法及要点
龋 病
Ⅰ类洞:为发生在所有牙面上的点隙、裂、沟龋损所备成的窝洞。
包括磨牙和前磨牙的面洞、上颌前牙腭面洞、上颌磨牙和下颌磨牙颊面2/3的颊面洞及颊面洞、上颌磨牙腭面2/3的腭面洞和腭面洞。
Ⅰ类洞制备方法及要点
Ⅰ类洞制备方法及要点
Ⅰ类洞制备方法及要点
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洞外形呈圆缓曲线,避开牙尖,尽量保留斜嵴或横嵴;
洞有足够的、均匀一致的深度,洞深1.5~2mm,应达牙本质浅层;
洞形为典型的盒状洞形,洞侧壁略向洞口聚合,必要时可增加倒凹固位;
Ⅰ类洞制备方法及要点
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保护牙髓,洞底应与面外形一致,以防穿髓;
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点、线角圆钝,洞底平坦;
洞缘角呈直角,无短斜面形成。
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Ⅰ类洞制备方法及要点
可制成洞口略小于洞底的洞形,不做预防性扩展。
Ⅰ类洞制备方法及要点
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颊面或腭面部分不做预防性扩展,沿颊沟或腭沟制成长条形,龈壁与牙长轴垂直,近远中壁相互平行或略向方聚合;
面制成鸠尾固位形;
轴壁与牙面弧度一致,与洞底相交形成阶梯,梯的轴髓线角应圆钝。
Ⅰ类洞制备方法及要点
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呈三角形或圆形;
洞深1~1.5 mm;
洞底与舌面平行,洞侧壁垂直于洞底;
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点、线角清晰,洞缘不宜保留悬空釉柱。
谢 谢
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