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SEM——扫描电镜应用实例 断口形貌分析 纳米材料形貌分析 在微电子工业方面的应用 第六十三页，共一百页。 SEM——扫描电镜应用实例 1018号钢在不同温度下的断口形貌 第六十四页，共一百页。 SEM——扫描电镜应用实例 ZnO纳米线的二次电子图像 多孔氧化铝模板制备的金纳米线的形貌（a）低倍像（b）高倍像 第六十五页，共一百页。 SEM——扫描电镜应用实例 （a）芯片导线的表面形貌图， （b）CCD相机的光电二极管剖面图。 第六十六页，共一百页。 STM——扫描遂道显微镜 利用量子理论中的隧道效应，由于所产生的隧道电流强度对针尖与样品表面之间的距离非常敏感，当探针在样品表面扫描时，它将感觉到样品表面微观形貌的高低，甚至原子和分子的高低，以及表面的电子状态。将得到的信息采集起来，再通过计算机信息处理，就可以得到样品表面能显示原子和分子的纳米级三维表面形貌图像。 原理 第六十七页，共一百页。 STM——扫描遂道显微镜 恒电流模式 恒高度模式 测量的工作模式 第六十八页，共一百页。 STM——仪器构造 显微镜主机：是实现探针在试样表面扫描检测的机械系统，是STM的核心。 探针系统——探针连在三维压电陶瓷扫描管上，可做垂直微升降和X、Y方向扫描，探针-试样间加偏压，以形成隧道电流。 粗调系统——用于探针-试样间距离的粗调。 隔振系统——避免检测时受到振动的干扰。 控制系统：如隧道电流的反馈控制等。 信号处理和图像显示系统：主要是计算机和各种软件处理系统。 第六十九页，共一百页。 STM——结构示意图 第七十页，共一百页。 TEM——样品制备 1、超薄切片： 将包埋块中的生物样品切成一定厚度的薄片，在透射电子显微镜下观察细胞的细微结构。以了解不同结构形态、不同功能的细胞内部结构和成分。 2、冷冻复型： 一种制备透射电子显微镜样品的方法。也可称为冷冻断裂或冷冻蚀刻技术。在生物、化学科学等领域，是一项重要的实验技术。 第三十一页，共一百页。 TEM——样品制备 超薄切片技术主要包括取材、固定、包埋、切片、染色等步骤。 第三十二页，共一百页。 TEM——样品制备 化学固定 防冻保护 样品冷 冻和断裂 冷冻蚀刻 和冷冻复型 复型膜剥 离和捞膜 冷冻复型技术流程 第三十三页，共一百页。 透射电镜的主要部件——物镜光阑 物镜光阑又称为衬度光阑，通常它被放在物镜的后焦面上。 常用物镜光阑孔的直径是20～120μm范围。 电子束通过薄膜样品后产生散射和衍射。散射角(或衍射角)较大的电子被光阑挡住，不能继续进入镜筒成像，从而就会在像平面上形成具有一定衬度的图像。光阑孔越小，被挡去的电子越多，图像的衬度就越大，这就是物镜光阑又叫做衬度光阑的原因。加入物镜光阑使物镜孔径角减小，能减小像差，得到质量较高的显微图像。 物镜光阑的另一个主要作用是在后焦面上套取衍射束的斑点（即副焦点）成像，这就是所谓暗场像。利用明暗场显微照片的对照分析，可以方便地进行物相鉴定和缺陷分析。 第三十四页，共一百页。 透射电镜的主要部件——选区光阑 选区光阑又称场限光阑或视场光阑。 为了分析样品上的一个微小区域，应该在样品上放一个光阑，使电子束只能通过光阑限定的微区。 对这个微区进行衍射分析叫做选区衍射。由于样品上待分析的微区很小，一般是微米数量级。制作这样大小的光阑孔在技术上还有一定的困难，加之小光阑孔极易污染，因此，选区光阑都放在物镜的像平面位置。这样布置达到的效果与光阑放在样品平面处是完全一样的。但光阑孔的直径就可以做的比较大。如果物镜的放大倍数是50倍，则一个直径等于50μm的光阑就可以选择样品上直径为1μm的区域。 选区光阑同样是用无磁性金属材料制成的，一般选区光阑孔的直径位于20～400μm范围之间，它可制成大小不同的四孔一组或六孔一组的光阑片，由光阑支架分档推入镜筒。 第三十五页，共一百页。 SEM（扫描电子显微镜）： 扫描电子显微镜的简称为扫描电镜，英文缩写为SEM (Scanning Electron Microscope)。它是用细聚焦的电子束轰击样品表面，通过电子与样品相互作用产生的二次电子、背散射电子等对样品表面或断口形貌进行观察和分析。现在SEM都与能谱（EDS）组合，可以进行成分分析。所以，SEM也是显微结构分析的主要仪器，已广泛用于材料、冶金、矿物、生物学等领域。 第三十六页，共一百页。 SEM——原理 利用扫描线圈使电子束在样品表面进行扫描，由于高能电子束与样品物质的相互作用，产生二次电子发射（以及其它物理信号），二次电子发射量随试样表面形貌而变化。利用二次电子信息对样品表面的组织或形貌进行检测、分析和成像。 样