- 3
- 0
- 约5.46千字
- 约 6页
- 2023-03-02 发布于北京
- 举报
本实用新型涉及防止特气污染装置,包括控制箱,所述控制箱中设有特气供气盘面、氮气吹扫管路和原隔离阀门,所述原隔离阀门的一侧安设有新增隔离阀门,所述新增隔离阀门与所述原隔离阀门之间连接有新增压力传感器,所述特气供气盘面上安装有调配组件,为加强防止内部泄漏交叉污染,通过于特气柜盘面特定位置处增加阀件及压力传感器的形式,可及时发现问题并立即处理,有效防止当阀门有问题发生交叉污染时无法及时发现,当工艺制程出现问题时已经造成巨大损失的情况发生,解决了原先当正常供应特气时,氮气控制阀门是关闭状态,当发生控制阀
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213089446 U
(45)授权公告日 2021.04.30
(21)申请号 202021998597.0
(22)申请日 2020.09.14
(73)专利权人 上海吉威电子系统工程有限公司
您可能关注的文档
最近下载
- 半导体设备原理与维护考试题及答案.docx VIP
- 北师大版必修1分子与细胞《二细胞物质代谢、能量代谢与信息传递的统一》教案及教学反思.docx VIP
- 半导体刻蚀设备工程师岗位招聘考试试卷及答案.doc VIP
- 紫光国微-市场前景及投资研究报告-强芯强国,特种模块芯片,特种集成电路,多维景气周期.pdf
- 半导体行业半导体设备工程师岗位招聘考试试卷及答案.doc VIP
- 数字电路与系统设计(第2版)(慕课版)黄丽亚课后习题答案解析.pdf
- 空气调节课程设计详细说明书详解.pdf VIP
- 2026年中国特种集成电路行业市场规模及投资前景预测分析报告.docx
- 【人卫课件耳鼻喉9版】鼻科学第十四章 鼻出血.pptx VIP
- 人教版四年级数学下册期末试卷(8套-含答案-可以直接打印).doc VIP
原创力文档

文档评论(0)