电子束曝光技术课程.pptVIP

第31页，共53页。 兼有高分辨率、高对比度和高灵敏度， 抗刻蚀能力也很强 综合实力强！ 第32页，共53页。 第33页，共53页。 多层抗蚀剂工艺 第34页，共53页。 3. 电子束曝光方式Scan Techniques for E-beam Lithography 1. 工件台移动和曝光写场 曝光图形被分成许多个小区域 (field) 电子束偏转范围受限 工件台移动切换曝光写场 (field) 第35页，共53页。 2. 矢量扫描光栅扫描 矢量扫描 Vector scan ——只在曝光图形部分扫描 分辨率高、速度慢 光栅扫描 Raster scan ——对整个曝光场扫描，束闸（beam blanking）只在图形部分打开 速度快、分辨率较低 第36页，共53页。 3. 高斯圆电子束Vs.成形电子束 曝光次数：90： 10： 2 高斯圆束 固定成形束 可变成形束 第37页，共53页。 工作方式1－高斯束、矢量扫描、固定工作台 第38页，共53页。 工作方式2－高斯束、光栅扫描、移动工作台 第39页，共53页。 电子束曝光技术课程 第1页，共53页。 张志勇 zyzhang@pku.edu.cn第2页，共53页。