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物理气相沉积法原理 物理气相沉积法是一种微米尺度上制备纳米粒子手段，是目前最流行的纳米粒子技术之一。它由英国科学家一次发明而来，是一种基于物理原理的纳米颗粒制备工艺。它指的是在低温高真空条件下，利用等离子体技术和能量源在空气中合成纳米颗粒的一种方法，简称物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）。 物理气相沉积法是被分解的原料通过气体直接进行沉积蒸发，该技术从原材料（碳材料、金属）的均匀汽化的分子的过程过程中提供绝大部分的材料，分子级的材料形成小团簇，再在表面形成纳米粒子，它可以生成小尺度、大科学价值的纳米结构和表面结构物质。 物理气相沉积法能够有效制备出高晶面粗糙度、更小尺寸、相较绝热时更质量稳定的纳米粒子，以及细微熔点、对应毒性小的碳材料包括碳纳米管和碳纳米锥。物理气相沉积法还可以利用原料源的可控性，为非金属粉末添加特殊的化学成分或Na/B的金属颗粒，以提高吸收特性和填充能力。 物理气相沉积法具有微米级尺寸精度、可控性及稳定性高等优点，它对薄膜厚度、表面形貌、分子结构等参数进行控制，能够制备出各种品质地纳米粒子，有着广泛的应用前景。 一般物理气相沉积制备纳米粒子流程：物理气相沉积法通常基于一个封闭的室内室外系统，静置于负压状态，以保持高纯洁的空气。内部安装了射频、直流电极或者非接触式等离子体技术，来把原料（金属粉末或者碳粉末）分解成小团簇，并通过模拟等离子体的影响，使物理气相沉积的反应活性更高，以保证其纳米粒子表面形貌的稳定性。另外，它还具有控制热耗小、效果稳定等优点，方便控制纳米粒子尺寸，尤其是在假想空间中容纳较小模块的需求下，物理气相沉积处理器可产生出更精细的纳米粒子尺寸，以达到催化、储能等功能。