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- 2023-03-23 发布于北京
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本实用新型公开了一种化学机械抛光保持环，涉及化学机械抛光技术领域，包括抛光保持环本体，所述抛光保持环本体包括金属部本体、粘结层、非金属部、第一耐高温层、第一耐磨层、第一防护层、第二耐高温层、第二耐磨层和第二防护层，所述金属部本体的顶部与粘结层的底部固定连接，所述粘结层的顶部与非金属部的底部固定连接，所述非金属部的顶部与第一耐高温层的底部固定连接。该化学机械抛光保持环，通过抛光保持环本体、第一耐高温层、第一耐磨层、第二耐高温层和第二耐磨层的结构，可以使抛光保持环本体具有耐高温和耐磨的性能，提高抛光
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213858733 U
(45)授权公告日 2021.08.03
(21)申请号 202022462029.5
(22)申请日 2020.10.30
(73)专利权人 江门市蓬江区泰德利机械设备有
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