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- 2023-04-24 发布于北京
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本发明实施例公开了一种发光器件的制作方法,本发明实施例将采用真空成膜工艺制作的无机传输层转移至量子点发光层上,可以避免真空成膜工艺涉及的高温或高能量粒子对量子点发光层的破坏,提高量子点发光层的发光强度。并且,本发明采用聚合物膜层作为转移媒介,由于聚合物一般具有更好的贴合性能,因此聚合物膜层便于无机传输层与量子点发光层之间实现紧密接触。另外,由于聚合物膜层的支撑性能较差,本发明将聚合物膜层制备在支撑基板上,从而可以将制作有聚合物膜层的支撑基板置于真空成膜工艺设备中完成无机传输层的制备。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114023896 A
(43)申请公布日 2022.02.08
(21)申请号 202111314429.4
(22)申请日 2021.11.08
(71)申请人 京东方科技集团股份有限公司
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