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一种检查光刻工艺微小失焦的方法,包括:提供具有测试键的晶圆,测试键包括间隔设置的第一结构测试键和第二结构测试键;在金属填充完成后,采用负电势模式对具有测试键的晶圆进行检测;在负电势模式下,通过电子束扫描的方法监控第一结构测试键和第二结构测试键的明态或暗态之数量变化判定光刻工艺的失焦程度。本发明通过至少在晶圆的边部设置具有第一测试结构和第二测试结构的测试键,以在负电势模式下,通过电子束扫描的方法监控第一结构测试键和所述第二结构测试键的明态或暗态之数量变化判定光刻工艺的失焦程度,不仅解决了光刻机机台
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114156194 A
(43)申请公布日 2022.03.08
(21)申请号 202111437342.6
(22)申请日 2021.11.29
(71)申请人 上海华力微电子有限公司
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