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- 2023-04-27 发布于北京
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本申请公开了一种气相沉积设备，其特征在于，包括：壳体(1)，以及设置在所述壳体(1)内的沉积室(2)，所述沉积室(2)内还设有用于承托工件的料盘(3)，所述料盘(3)下方设有传动轴(4)，所述传动轴(4)远离所述料盘(3)的一侧伸出所述壳体(1)外侧与动力源连接，用于带动所述料盘(3)转动；所述料盘(3)还设有多个通孔(31)；所述沉积室(2)设有至少两个进气通道(21)。本申请提供的气相沉积设备，从沉积室不同的位置引入工艺气体，配合料盘的转动，使得位于料盘上的工件随之转动，均匀地接触由进气通道
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114134485 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 202111494613.1
(22)申请日 2021.12.07
(71)申请人 航天
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