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新材料标准物质 材料计量是研究材料各种固有内在特性和外延特性的溯源性测量技术、保证量值的统一与准确可 靠的计量科学。由于材料计量在材料研究开发、生产和应用过程中的质量保证作用，在健康、安全、环 境和贸易等社会和经济领域中的服务、保障和支撑功能，材料计量受到许多国家、国际组织和国家计量 研究院的高度重视。 中国计量科学研究院(NIM)新材料领域创新团队，基于新材料产业发展需求，以各种战略产业材料 为研究对象，开展材料结构、组成、性能三位一体的校准溯源、标准物质、标准方法的研究及产业需求 的个性化测量服务。目前已为集成电路、新能源、电子信息、新型显示及化工等领域新材料提供了技术 服务。在计量技术和标准化方面取得丰硕研究成果，得到国际同行认可并达到同类国际领先水平。新材 料计量研究室是亚太计量组织材料计量委员会(APMP/TCMM) 、新材料与标准化凡尔赛组织石墨烯及 二维材料技术委员会(VAMAS/TWA41) 、全国新材料与纳米计量技术委员会(MTC29) 、中关村材料试验 联盟技术标准化委员会/基础与共性技术领域标准化委员会(CSTM/FC00) 、中国新材料与标准计划 (VAMAS-in-China) 的秘书处挂靠单位，为我国新材料产业计量与标准提供国内外合作的平台。与国际国 内高校、先进国家计量院、企业和研究机构建立了良好的合作交流机制。 纳米尺度薄膜厚度标准物质 纳米尺度薄膜由于其独特的光学和电学性能而广泛应用。微纳米薄膜厚度是其重要参数，与薄膜材 料的力学性能、透光性能、表面结构等都有着密切的联系，所以薄膜厚度需要准确测量。目前，国家计 量院已研制出多层膜膜厚(GaAs/AlAs 超晶格) 、二氧化硅薄膜和氮化硅薄膜膜厚标准物质，用于X 射线 光电子能谱(XPS) 、俄歇电子能谱(AES) 、二次离子质谱(SIMS)等表面分析技术溅射速率的校准，或者椭 偏仪、掠入射X 射线反射等各种微纳尺度膜厚测量仪器的校准，以及透射电镜(TEM) 、扫描电镜(SEM) 放大倍率的校准，以确保样品成分深度变化或厚度、放大倍率等测量结果的准确可靠，满足纳米材料及 器件设计、制造等单位的需求。 多层膜膜厚(GaAs/AlAs 超晶格)标准物质 GaAs/AlAs 超晶格多层膜厚度(nm) 编号 标准值及不确定度 氧化层 第一层 第二层 第三层 第四层 第五层 第六层 标准值 0.98 20.12 10.60 10.06 10.58 10.07 10.58 GBW 13955 不确定度 参考 参考 0.18 0.20 0.18 0.18 0.18 二氧化硅薄膜膜厚标准物质 二氧化硅薄膜膜厚(nm) 编号 标准值 不确定度 GBW 13957 12.56 0.30 GBW 13960 106.1 1.7 GBW 13958 20.87 0.36 GBW 13959 57.55 0.50 氮化硅薄膜膜厚标准物质 氮化硅薄膜膜厚(nm) 编号