改善离子注入机金属污染的方法.pdfVIP

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2023-05-04 发布于北京
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改善离子注入机金属污染的方法.pdf

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本发明提供一种改善离子注入机金属污染的方法，提供离子注入机，将离子注入机置于空机状态，离子注入机包括机台腔室和设置于其中的离子注入装置；将离子注入机置于空机状态；利用离子注入装置产生的离子束流对机台腔室进行轰击，利用离子注入机对裸晶圆进行离子注入，进行金属污染含量测试，得到金属污染含量数据；提供设置阈值，将金属含量污染数据与设置阈值进行对比；若金属污染含量数据大于设置阈值，则将金属含量污染数据与设置阈值进行对比，直至金属污染含量数据小于设置阈值。本发明的方法可净化机台内部环境，降低金属含量到规格

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114256045 A (43)申请公布日 2022.03.29 (21)申请号 202111541428.3 (22)申请日 2021.12.16 (71)申请人华虹半导体（无锡）有限公司