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实施方式提供一种耐热性高的半导体装置及半导体存储装置。实施方式的半导体装置包括:氧化物半导体层;栅极电极;栅极绝缘层,设置在氧化物半导体层与栅极电极之间;第1电极,电连接在氧化物半导体层的第1位置;第2电极,电连接在氧化物半导体层的相对于第1位置位于第1方向的第2位置;第1导电层,设置在氧化物半导体层与第1电极之间、及氧化物半导体层与第2电极之间的至少任一位置,且含有氧(O)及氮(N)中的至少任一元素、第1金属元素、以及与第1金属元素不同的第1元素;以及第2导电层,设置在氧化物半导体层与第1导电
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114267728 A
(43)申请公布日 2022.04.01
(21)申请号 202110220032.2
(22)申请日 2021.02.26
(30)优先权数据
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