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一种三跑道全刻蚀平面靶.pdfVIP

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  • 2023-05-05 发布于四川
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一种三跑道全刻蚀平面靶.pdf

    本发明公开了一种三跑道全刻蚀平面靶，本发明由真空底板和靶底座等组成，所述三跑道全刻蚀平面靶还包括：靶旋转机构，设在真空底板上，用于控制平面靶旋转，所述靶旋转机构包括贯通固定在真空底板上的真空密封旋转装置，所述真空密封旋转装置包括外壁固定贯通在真空底板上的轴套，轴套内部中心转动连接中心转轴，中心转轴远离靶底座的一端延出到轴套外部设置驱动模块，用于驱动中心转轴转动；以及组靶机构，设在靶底座上。通过本发明设计的一种三跑道全刻蚀平面靶，能够真正实现了靶面全刻蚀，沉积速率高，靶材利用率可达80％，运行费用

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114293163 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111634865.X (22)申请日 2021.12.29 (71)申请人 丹阳市宝来利真空机电有限公司

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