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2023-05-10 发布于四川
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经由双通光场重建的样本成像.pdf

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用于经由双通光场重建的样本成像的方法和系统。在示例性方法(50)中，可以在光场平面(76)中捕获样本(74)的光场图像(72)。光场图像(72)可以被计算地正向投影到对象空间(78)中的多个z平面中的每一个，以生成一组正向投影的z平面图像(88a‑f)。可以计算将从每个z平面图像的对象空间(78)中的相同xy区域向光场平面(76)的反向投影与光场图像(72)进行比较，以确定来自z平面图像(88a‑f)中的每一个的反向投影的xy区域与光场图像(72)之间的相应对应程度。对于每个不同的xy区域，可以

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114556411 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202080071626.5 (74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理