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一种绝缘窗、反应腔及电感耦合等离子体处理装置.pdfVIP

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  • 2023-05-10 发布于四川
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一种绝缘窗、反应腔及电感耦合等离子体处理装置.pdf

    本发明公开一种绝缘窗、反应腔及电感耦合等离子体处理装置，涉及半导体技术领域，以解决由于陶瓷窗表面温度不均匀，生成聚合物颗粒，影响刻蚀工艺的良率和性能的问题。所述绝缘窗包括：绝缘窗本体、加热组件和温度控制组件。绝缘窗本体具有腔体结构。加热组件均匀的设置在腔体结构中，用于对绝缘窗本体进行加热。温度控制组件与加热组件相连接，用于调节加热组件的加热温度。所述反应腔包括上述技术方案所提的绝缘窗。所述电感耦合等离子体处理装置包括上述技术方案所提的绝缘窗。本发明提供的电感耦合等离子体处理装置用于处理晶圆。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114520138 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202011297698.X (22)申请日 2020.11.18 (71)申请人 中国科学院微电子研究所 地址 10

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