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- 2023-05-11 发布于四川
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本发明涉及一种拉制六英寸区熔硅单晶的方法及使用的热屏。在区熔单晶炉的中炉室内加热线圈的下方40mm处设置热屏,热屏罩的上沿直径为90mm,下沿直径为215mm,高度为40mm,冷凝管路中冷却水的压力为3.2bar;当进行扩肩、转肩、等径、收尾工序时,硅单晶随着下轴向下移动,进入到热屏区域内,热屏罩反射的热量作用在单晶的下部,避免温度梯度过大或过小而发生单晶炸裂或回熔导致成晶失败。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114574940 A
(43)申请公布日 2022.06.03
(21)申请号 202210164175.0
(22)申请日 2022.02.23
(71)申请人 中国电子科技集团公司第四十六研
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