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本发明提供一种用于薄膜晶体管的ESD防护器件结构及制备方法,提供自下而上依次叠置衬底、第一绝缘层、中间层、第二绝缘层及器件层的基底,并在衬底中形成与第一绝缘层相接触的第一导电类型层及第二导电类型层,从而通过第一导电类型层及第二导电类型层将ESD防护二极管制备于衬底,以在衬底中形成一个PN结,该PN结可对后续工艺中在器件层中制备的薄膜晶体管电路进行ESD防护,且由于薄膜晶体管基本属于低温工艺,因此后续薄膜晶体管的制备工艺不会对衬底中的PN结造成性能退化,进一步的,在ESD发生时,中间层还可屏蔽PN
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114582859 B
(45)授权公告日 2022.07.05
(21)申请号 202210477980.9 H01L 27/12 (2006.01)
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