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薄膜沉积设备.pdfVIP

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  • 2023-05-15 发布于四川
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薄膜沉积设备.pdf

    本发明是一种薄膜沉积设备，其具有腔体、载台、至少一挡件与至少一遮蔽件。所述载台用以承载基板，而挡件则防止载台上的基板的背镀。所述遮蔽件高于挡件并用以遮蔽挡件，以代替挡件盛接部分未沉积于基板的靶材原子。如此，可避免靶材原子沉积于挡件并形成薄膜，进而防止受热而流动的薄膜自挡件流动到挡件与基板的接触处所造成的黏片问题。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114717514 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202110013273.X (22)申请日 2021.01.06 (71)申请人 鑫天虹(厦门)科技有限公司 地址

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