一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置及使用方法.pdfVIP

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2023-05-18 发布于北京
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一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置及使用方法.pdf

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本发明涉及施釉装置技术领域，尤其是一种陶瓷瓦加工用均匀施釉装置，包括箱体以及连通管，所述箱体的上端为开口设置，所述滑动结构包括支撑架、转轴、滚筒以及限位块，两个所述支撑架分别倾斜安装在所述箱体的内壁以及隔板的侧面上，所述转轴固定在两个所述支撑架之间，所述滚筒套设在两个所述转轴之间，所述限位块安装在所述滚筒内侧的转轴末端。本发明采用浸泡的方式，将陶瓷瓦顺着滚筒滑落，滑落的过程中充分的与箱体内部的物料实现接触，并将釉料均匀的包裹在瓦片的外表面，实现均匀施釉的效果。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114851366 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210563845.6 (22)申请日 2022.05.23 (71)申请人谷城钜沣陶瓷有限公司地址 441