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一些实施例涉及一种集成电路,包括:像素,其包括:光电探测区域;以及漏极,其被配置为丢弃该光电探测区域外的像素的半导体区域内的电荷载流子。一些实施例涉及一种集成电路,包括:像素,其包括:光电探测区域;以及漏极,其被配置为丢弃来自该光电探测区域的电荷载流子,其中漏极包括半导体区域,并且该半导体区域通过金属触点来接触。一些实施例涉及一种集成电路,包括:像素,其包括:光电探测区域;以及漏极,其被配置为丢弃来自该光电探测区域的电荷载流子,其中该漏极包括半导体区域,其中通过不包括多晶硅电极的导电路径形成到该
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114902419 A
(43)申请公布日 2022.08.12
(21)申请号 202080091473.0 (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司
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