阵列基板及其制作方法、显示装置.pdfVIP

下载本文档

0
0
约1.11万字
约 11页
2023-05-25 发布于四川
举报
版权申诉

阵列基板及其制作方法、显示装置.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，所述阵列基板包括：基板；氧化物半导体层，设置于所述基板上；阻挡层，设置于所述氧化物半导体层上；氧化物保护层，设置于所述阻挡层上；栅极绝缘层，设置于所述阻挡层和所述氧化物保护层上；以及栅极，设置于所述栅极绝缘层上。由此，能够有效地降低外界环境中的酸、水、氧气等因素对阵列基板的电学性能产生干扰，而且还可以有效地阻挡湿法蚀刻时对氧化物半导体层过度刻蚀而造成断线等工艺不稳定的问题，从而能够稳定不同批次的阵列基板的电学性能，并提高阵列基板的电子迁移率和器件稳

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112242406 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 202011071707.3 (22)申请日 2020.10.09 (71)申请人 TCL华星光电技术有限公司