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本发明涉及一种应用于半导体领域的石英罩离子污染的检测工艺，该技术的检测工艺采用离子色谱法。石英罩离子污染的检测工艺主要包括以下步骤：(1)将清洗完成后的石英罩烘干；(2)净空房中石英罩灌装纯水静置两小时；(3)取样，离子色谱仪检测阴离子含量；(4)检测完成后记录结果，将石英罩清洗，烘干，包装。采用该工艺可以检测石英罩在清洗后，药液残留在规定的范围内是否达标，能否符合使用要求，能有效检测、监控清洗的洁净度，在洗净再生领域对清洗是否达标的一种检测手段。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112255362 A
(43)申请公布日 2021.01.22
(21)申请号 202010737699.5
(22)申请日 2020.07.28
(71)申请人 安徽富乐德科技发展股份有限公司
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