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版图、掩膜版及光刻机曝光验证方法.pdfVIP

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  • 2023-05-25 发布于四川
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版图、掩膜版及光刻机曝光验证方法.pdf

    本申请提供一种版图、掩膜版及光刻机曝光验证方法，其中版图包括六种版图图案，每种版图图案包括不同线条及图形的排列图案，每种版图图案中的多个排列图案根据尺寸的不同依次排列；相邻版图图案中的排列图案交错布局设置于非图形区域。本说明书实施例设计一版图，其包含多种版图图案，在掩膜版上增设包含版图图案的版图并通过该掩膜版进行曝光，对按照版图曝光的光刻图形进行线宽及胶条形貌的验证；根据版图图案中不同验证功能的版图图案尺寸进行光刻图形的验证，避免了测量验证过程中重复性的分析与定位过程，可快速、准确实现线宽和胶条

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116149130 A (43)申请公布日 2023.05.23 (21)申请号 202310416480.9 (22)申请日 2023.04.19 (71)申请人 魅杰光电科技 （上海）有限公司 地

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