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本申请公开了一种用于毫米波段的双工器及其制备方法，该方法包括：根据预设的滤波器波导结构的高度确定硅片的层数，通过深层反应离子刻蚀DRIE技术将每层所述硅片进行刻蚀加工得到刻蚀后的硅片；通过键合技术将所述刻蚀后的硅片进行键合形成三维堆栈式结构，以及通过深层微电铸技术对所述三维堆栈式结构进行金属电铸，并在电铸后去除硅片得到由金属组成的微复制模具；根据所述微复制模具对塑料进行加工得到波导腔体，以及在所述波导腔体内壁电镀金属层得到双工器。本申请解决了现有技术中制备双工器的精度较低的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112259942 B
(45)授权公告日 2021.09.07
(21)申请号 202010897760.2 H01P 11/00 (2006.01)
(22)申请日
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