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口腔正畸学考试题目之欧阳歌谷创编.pdf

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口腔正畸学考试题目之欧阳歌谷创编--第1页 欧阳歌谷创编 2021 年2 月1 口腔正畸学试题答案一、名词解 释:(每题3 分, 15 分) 欧阳歌谷(2021.02.01) 1.Idea normal occlusio n :理想正常河:是Angle 提出来的,即保 存全副牙齿,牙齿在上下牙弓上排列得很整齐,上下牙的尖窝关 系完全正确,上下牙弓的合关系非常理想,称之为理想正常合。 2 .Anchorage :正畸矫治过程中,任何施于施治牙使其移动的力 必然同时产生一个方向相反、大小相同的力,而支持这种移动矫 正牙体引起的反作用力的情况称作“支抗”。 3 .Deep overbite :上前牙冠覆盖下前牙冠超过 1/3 者称为深覆 合,可分为3 度。 Ⅰ度深覆合上前牙牙冠覆盖下前牙超过冠1/3 而不足 1/2 者。 Ⅱ度深覆合上前牙牙冠覆盖下前牙超过冠1/2 而不足2/3 者。 Ⅲ度深覆合上前牙牙冠覆盖下前牙超过冠2/3 者。 4 .Leeway space :替牙间隙(leeway space) 乳尖牙及第一、二乳 磨牙的牙冠宽度总和,比替换后的恒尖牙和第一、二双尖牙大, 这个差称为 :替牙间隙,即:替牙间隙= (Ⅲ+ Ⅳ+ Ⅴ)- (3+4+5 )。在上颌单侧约有 0.91~ ,在下颌单侧为 1.7~ 2 .。 5 .Interceptive Treatment :阻断矫治(Interceptive Treatment )是 对正在发生或刚发生的畸形用简单的矫治方法阻断畸形的发展, 欧阳歌谷创编 2021 年2 月1 口腔正畸学考试题目之欧阳歌谷创编--第1页 口腔正畸学考试题目之欧阳歌谷创编--第2页 欧阳歌谷创编 2021 年2 月1 使之自行调整成为正常合或采用矫治的方法引导其正常生长而成 为正常合。 二、填空题:(每空0.5 分,共20 分) 1.X 线头影测量常用的基准面前颅底平面、眼耳平面、 Bolton 平面。 2 .支抗的种类:颌外支抗、颌内支抗、颌间支抗。 3 .矫治力以力的来源分,可分为: 颌内力 、_颌间力_ 、颌外 力。 以力的强度分,分为_重度力:_ 力强度大于 350gm、_轻度力: 强 度小于60gm ___、_ 中度力:为60gm~350gm 之间_。 以力的作用时间分,分为__ 间歇力___、___持续力_____。 以矫治力产生的方式分___机械力_ 、_肌能力___ 、_______磁力 __。 以力的作用效果分______正畸力__、_____矫形力_______。 4. 在恒牙萌出后,面部在三维方向的生长发育以 高度 增加 为最大,其次是 深度 , 宽度 增加最少。 5 .替牙期的暂时性错合有:上颌左右中切牙间隙、上颌侧切牙牙 冠向远中倾斜、恒切牙萌出初期出现轻度拥挤现象、磨牙建合初 期、可能为尖对尖的合关系、前牙深覆合_。 6 .颅面骨骼的生长发育方式有__软骨的间质及表面增生___、_骨 缝的间质增生、骨的表面增生__。 7 .面部长度与高度的增长有重要影响的4 条骨缝为 额颌缝 、颧 颌缝、颧颞缝、翼

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