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一种用于执行衬底上的特征的间隙填充的方法,其包括:(a)移动所述衬底至处理室中;(b)执行ALD工艺的多个循环;(c)从所述处理室清扫来自所述ALD工艺的处理气体;(d)通过将含氟气体引入至所述处理室中并施加RF功率至所述含氟气体以在所述处理室中产生氟等离子体,而对所述衬底进行等离子体处理;(e)从所述处理室清扫来自所述等离子体处理的处理气体;(f)重复操作(b)至(e),直到执行预定循环次数。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112384643 A
(43)申请公布日 2021.02.19
(21)申请号 201980045632.0 (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263
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