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像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构.pdf

    本发明提供一种像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构，像素结构包括：衬底；光电转换区，位于衬底中；电荷收集区，布置于衬底中；第一导流结构，自衬底的第一面朝第二面延伸至衬底内部，电荷收集区及光电转换区设置于第一导流结构的同侧；第二导流结构，设置于衬底的第一面，与第一导流结构连接且延伸至电荷收集区；电隔离层，设置于第一导流结构、第二导流结构与衬底之间的界面；导流辅助层，至少设置于所述光电转换区与所述第一导流结构之间，其电势自衬底的第一面朝第二面的方向变小。本发明可使光电转换区获得更高的满阱容

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115831983 A (43)申请公布日 2023.03.21 (21)申请号 202111092728.8 (22)申请日 2021.09.17 (71)申请人 思特威（上海）电子科技股份有限公

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