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像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构.pdf

    本发明提供一种像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构，像素结构包括：衬底；光电转换区，位于衬底中；电荷收集区，布置于衬底中；第一导流结构，自衬底的第一面朝第二面延伸至衬底内部，所述电荷收集区及所述光电转换区设置于所述第一导流结构同侧；第二导流结构，设置于衬底的第一面，与第一导流结构连接且延伸至电荷收集区；电隔离层，设置于第一导流结构、第二导流结构与衬底之间的界面。本发明可使光电转换区获得更高的满阱容量及光电转换区感度的同时可以更好的兼容紧凑的共享像素布局结构。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115831984 A (43)申请公布日 2023.03.21 (21)申请号 202111092729.2 (22)申请日 2021.09.17 (71)申请人 思特威（上海）电子科技股份有限公

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