超级结器件结构及其形成方法.pdfVIP

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  • 2023-05-30 发布于四川
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一种超级结器件结构及其形成方法,其中形成方法包括:提供衬底;在衬底上形成第一外延层和主动电场介入层,第一外延层内具有第一离子,主动电场介入层内具有第二离子,第一离子的导电类型和第二离子的导电类型相同,第二离子的掺杂浓度小于第一离子的掺杂浓度;在第一外延层和主动电场介入层内形成若干超级结沟槽;在超级结沟槽内形成第二外延层,第二外延层内具有第三离子,第三离子的导电类型与第一离子的导电类型不同。通过在第一外延层内形成主动电场介入层,利用主动电场介入层将电场高峰引入体内,减少电场高峰对第一外延层上的器件

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115810545 A (43)申请公布日 2023.03.17 (21)申请号 202211509788.X (22)申请日 2022.11.29 (71)申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 地址

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