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- 2023-05-30 发布于四川
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在一般方面,本申请公开了一种制造具有可调体积分数的纳米孪晶区的陶瓷薄膜。在一些方面,本申请公开了一种用于在真空室中的衬底的表面上制造陶瓷薄膜的方法。陶瓷薄膜包括多个晶粒;每个晶粒包括一个或多个纳米孪晶区。一个或多个纳米孪晶区的体积分数在陶瓷薄膜的30~80%的范围内。准备包括多种溅射材料的多个靶。在真空室中形成气体气氛。向多个靶供应电能以引起多种溅射材料的共溅射,从而形成具有一个或多个纳米孪晶区的陶瓷薄膜。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115812002 A
(43)申请公布日 2023.03.17
(21)申请号 202180017613.4
(22)申请日 2021.07.15
(85)PCT国际申请进入国家阶段
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