原创力文档- 1、本文档共23页，其中可免费阅读22页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明的实施方式涉及一种半导体存储装置及其制造方法。实施方式的半导体存储装置具备：衬底；积层膜，包含交替设置于所述衬底上的多个第1绝缘层及多个电极层；及第2绝缘层，设置于所述积层膜上。所述装置还具备包含依次设置于所述积层膜及所述第2绝缘层内的第1绝缘膜、电荷储存层、第2绝缘膜、第1半导体层、及第3绝缘膜的多个柱状部。进而，夹在所述柱状部间的所述第2绝缘层的宽度在所述第2绝缘层的至少一部分比夹在所述柱状部间的所述积层膜的宽度更细。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112510051 A
(43)申请公布日
2021.03.16
(21)申请号 20201
文档评论（0）