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2023-05-31 发布于四川
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具有用于搬运衬底的承载环的CVD反应器和承载环在CVD反应器上的应用.pdf

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本发明涉及一种装置的应用，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的基座组件(3)，该基座组件具有至少一个朝向过程室(2)的、具有凹槽(17)的宽侧平面(15)和置入至少一个凹槽(17)中的用于承载和搬运衬底(10)的承载元件(20)，其中，该承载元件(20)的平行于所述宽侧平面(15)延伸的上侧(26)与凹空(11)的界面邻接，所述衬底(10)被布置在该凹空中，其中，所述界面的在内柱体侧面上延伸的区段(24)以形成倒圆的边缘(25)或斜面(25)的方式过渡至所述承载元件(20)的上侧(26)

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112513317 A (43)申请公布日 2021.03.16 (21)申请号 201980050051.6 (74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所

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