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本发明实施例是有关于一种半导体器件以及其制造方法。本公开实施例提供一种半导体器件，包含衬底、第一多晶材料图案、第一导电元件、第一半导体层以及第一栅极结构。第一多晶材料图案在衬底上方且从衬底向外突出，其中第一多晶材料图案包含第一有源部分和接合到第一有源部分的第一多晶材料部分。第一导电元件在衬底上方，其中第一导电元件包含第一多晶材料部分以及覆盖所述第一多晶材料部分的顶表面和侧壁中的至少一个的第一金属导电部分。第一半导体层在衬底上方并且覆盖第一多晶材料图案的第一有源部分和第一导电元件。第一栅极结构在第
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112542509 A
(43)申请公布日
2021.03.23
(21)申请号 20201
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