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- 2023-06-04 发布于四川
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本发明公开一种空间位置变化前后两次检测波像差残差的分析方法,计算出加工前后波像差变化量。在被测镜上任意位置作三个标记,加工前后检测波像差,两次检测的波像差上找出三个标记没有数据的区域,计算出中心点的位置坐标,这三个点坐标为标记点位置。加工前后检测的波像差上的三个标记点连成两个三角形,两者的空间位置发生了三种几何变换:旋转、平移和缩放,解出两个三角形的变换矩阵T,根据变换矩阵T,计算出加工后的波像差矩阵变换成跟加工前同样空间位置且同等大小的三维矩阵数据,将其与加工前的波像差相减得到残差,分析这两次
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112697398 A
(43)申请公布日 2021.04.23
(21)申请号 202011434660.2
(22)申请日 2020.12.10
(71)申请人 中国科学院光电技术研究所
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