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处理基板的装置和方法.pdfVIP

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  • 2023-06-05 发布于四川
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处理基板的装置和方法.pdf

    本发明构思提供一种用气体处理基板的装置和方法。所述装置包括：具有在其中处理基板的加工空间的腔室；在加工空间中支承基板的基板支承单元；将疏水性气体供应到支承在基板支承单元上的基板上的气体供应单元；以及控制基板支承单元和气体供应单元的控制器。基板支承单元包括在其上放置基板的支承板以及将基板抬离支承板或将基板下降到支承板上的销组件，并且控制器通过调节销组件来控制基板表面的疏水化程度。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112750729 A (43)申请公布日 2021.05.04 (21)申请号 202011203513.4 (22)申请日 2020.11.02 (30)优先权数据 10-2019-0

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