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- 2023-06-05 发布于四川
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本发明提供一种支承单元、基板处理装置和基板处理方法。用于处理基板的装置包括：壳体，其在内部具有处理空间；气体供应单元，其将疏水性气体供应到处理空间中以使基板疏水化；以及支承单元，其在处理空间中支承基板。支承单元包括：支承板；加热构件，其加热放置在支承板上的基板；以及高度调节构件，其在第一位置和第二位置之间改变基板的位置，第一位置与支承板的上表面向上间隔开第一距离，第二位置与支承板的上表面向上间隔开第二距离，且第二位置是比第一位置高的位置。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112750728 A
(43)申请公布日 2021.05.04
(21)申请号 202011202960.8
(22)申请日 2020.11.02
(30)优先权数据
10-2019-0
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